中国芯资3：国产芯片制造最新制程工艺究竟是7nm,14nm还是28nm？

《中国人芯鉴连载3》：国产芯片工业用最新现状如何？这个要从多个角度来说：

1.第一视角：中国人企业可以工业用生产线的芯片工艺

只是工业用，不考虑他国技术和设备，这个层面，现在可以做7nm了，并且中芯的7nm芯片现在在市场上之外设备有配备。这个要感恩中芯国际的台湾工程师梁孟松，在此之后的所谓是增大生产量和挺进多层次国产化。但是旧金山后半期一致管制了12nm以下，所以最新的明面上应在12nm，前段等待时间上海官方释出的14nm大规模投入生产，应称之为的就是这个。

2.第二视角：全部都是多层次去美化单晶

基于公开的最新消息，我们的去美化全部都是多层次28nm现在顶多，14nm应也立刻或现在实现，Duv光刻机不受美方技术管制。

3.第三视角：全部都是多层次显国产单晶

这个难度很大，当今世界，还并未一个国家可以做直接全部都是多层次生产线，哪怕是28nm。如果要做这个，要必先做28nm的全部都是多层次国产化，里面包含很多环节，贵金属等都并不需要攻克，并不需要相当长的等待时间，28nm应在未来两年可以做，其他的我们不用拭目以待。

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